О компании | Новости | Контакты | Сервис Регистрация     Вход
Аналитическое оборудование | Телевизионное оборудование Поиск Ru | En
О Rigaku
   

ULTIMA IV

Новый многофункциональный прибор Ригаку на базе тета/тета гониометра и 3 кВт источника, соданный специально для решения самых последних задач в анализе современных материалов.

Внедрение Ultima IV компанией Ригаку расширяет области применения рентгеновской дифракции

Компания Ригаку впервые представила свою новую модель Ultima IV на Рентгеновской конференции в Денвере, чем еще раз доказала общественности быстроту своей реакции, как компании-производителя, следовать последним тенденциям в исследованиях материалов и даже опережать их. Так революционным шагом в развитии аппаратных возможностей современных дифрактометров стало внедрение методов SAXS, малоуглового рентгеновского рассеивания, и in-plane, анализа в плоскости, в стандартную конфигурацию q/q дифрактометра. Теперь нет необходимости покупать два прибора или рисковать с синхротроном для решения такого рода задач.

SAXS / Малоугловое рентгеновское рассеивание


Опция SAXS была внесена Ригаку в ответ на необходимость исследования наноструктурных материалов. Для лучшего понимания всей морфологии наноструктурной системы необходим анализ и малоуглового и большеуглового диапазона углов кривой рассеивания. Малоугловое рассеивание применяется для определения дальнего порядка, включая определение взаимодействия между частицами и их размер. Большеугловой диапазон открывает фазовый состав анализируемого материала, размер кристаллитов, степень кристаллизации и др. Оба эти метода, также как и другое аналитическое оборудование, помогает охарактеризовать физические размеры наночастиц. SAXS-опция также расширена и для режима отражения при исследовании размера частиц и пор в тонких пленках на подложках, в том числе и в поверхности жидкостей.


In-plane / Анализ в плоскости


Приставка для рассеивания в плоскости с вращением детектора параллельно поверхности анализируемого образца также расширяют возможности анализа тонких пленок. В то время, пока большинство лабораторных исследований проводятся в стандартной геометрии, анализ на синхротроне обладает преимуществом в методе рассеивания для получения информации непосредственно с поверхности образца тонкой пленки. Поскольку пленки становятся все тоньше, ренгенодифракционные методы в стандартной геометрии либо дают слабую информацию, либо запутанную вследствие малых размеров кристаллитов или аморфности структуры. Многие свойства материалов обусловлены состоянием структуры в плоскости, нежели от структуры в поперечном ей направлении.
При появлении дифрактометра Ultima IV дифрактометрические исследования в плоскости могут быть теперь проведены в лабораторных условиях. Такие исследования могут помочь в построении функции фазового состава по глубине анализируемого слоя, в определении преимущественных ориентировок, внутренних напряжений и пр. Нет и необходимости менять такую приставку под стандартные эксперименты, достаточно лишь изменит систему щелей.
Ultima IV Ригаку, как и младшие модели, имеет возможность быстрого изменения схемы фокусировки: расходящегося / параллельного пучка. Новая перекрестная оптика (комбинированная оптическая система), разработанная Ригаку, позволяет использовать либо одну, либо другую схему фокусировки в одном оптическом модуле. А изменение схем происходит одним быстрым поворотом фокусирующего зеркала с изогнутой поверхности на плоскую без какой-либо другой дополнительной перестройки «железа».


D/MAX UltimaIV

  • Оптика для малоуглового рассеивания
  • Анализ при высоких температурах
  • Одновременное проведение рентгеноструктурного и дифференциального калориметрического анализа
  • Max-Flux® оптика для рентгеновской рефлектометрии и задач тонких пленок
  • Пространственный детектор для специальных задач


Материалы

  • Порошки (поликристаллические, массивные материалы)
  • Тонкие пленки (сегнетоэлектрики, магниты, и др.)
  • Массивные монокристаллы
  • Жидкости


Оптика

  • Расходящийся и стандартный параллельный пучок
  • Параллельный пучок
  • Параллельный пучок высокого разрешения


Области применения

  • Идентификация фаз
  • Кристаллические структуры
  • Размер кристаллитов
  • Преимущественные ориентации
  • Совершенство кристаллической структуры
  • Степень кристаллизации
  • Остаточные напряжения
  • Функция радиального распределения
  • Ориентация и структура тонких пленок
  • Распределение размеров наночастиц и пор
  • Многослойные структуры (толщина, плотность, шероховатость)
  • Одновременный рентгеноструктурный и калориметрический анализ

Скачать брошюру

 
Москва, Россия, 123610, 12, Краснопресненская наб., Центр Международной Торговли, М-2, 15 этаж, офис 1512
+7 (495) 967 0959
Powered by Korgh